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    • 先進的清洗技術(shù)如何助力先進節(jié)點實現(xiàn)更佳晶圓良率

      2023-08-23
    • 帶領(lǐng)電鍍行業(yè)發(fā)展

      2023-03-23
    • 推動Smart Megasonix智能升級

      2023-03-09
    • 濕法邊緣蝕刻和清洗工藝可提高晶圓產(chǎn)能

      2022-11-02
    • 可對碳化硅和硅襯底進行清洗的Post-CMP設(shè)備

      我們在上一篇博文中深入闡述了碳化硅襯底芯片的崛起,以及解決其清洗難題的方法。鑒于碳化硅晶圓具有薄且易碎的固有特性,還易出現(xiàn)表面不均勻的現(xiàn)象,因此在加工和處理時需要特別小心,而我們所擁有的廣泛設(shè)備組合,可確保滿足這些需求。
      2022-08-31
    • 面臨SiC制造困境的設(shè)備制造商

      碳化硅 (SiC) 襯底芯片已進入(超)快車道。汽車行業(yè)需要SiC芯片,以增加電動汽車(EV)的續(xù)航里程并縮短充電時間;電信行業(yè)希望將SiC芯片應(yīng)用于6G;可再生能源行業(yè)則希望將其用于更有效地發(fā)電和儲存。
      2022-05-27
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