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面板級先進封裝電鍍設備

應用于PLP面板級封裝 Cu, Ni, SnAg, Au 電鍍

盛美上海面板級電鍍設備可應用于多種工藝的電鍍步驟，包括pillar, bump和 RDL。該電鍍設備也可運用于微米及亞微米高密度面板封裝。

面板級先進封裝電鍍設備

主要優勢：

水平式電鍍腔體，無交叉污染
可單腔體維護，提高設備正常運行時間（up time）
均勻控制面板內電場分布，達到良好的面板內及面板間膜厚均勻度

特性規格：

應用于510*515mm panel 和 600*600mm panel
最多配置3個LOADPORT
配置2個預濕腔，2個清洗腔
配置alignment和CCD巡邊裝置，以及翻轉裝置
可配置4-16個電鍍腔，電鍍銅，鎳，錫銀，金等
Warpage≤10mm

工藝指標：

WIW Uniformity：<5% (max-min/2Ave.)
Within Die Uniformity：<5% (max-min/2Ave.)
WTW Uniformity: <3%

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