×
By clicking accept, you understand that we use cookies to improveyour experience on our website. For more details, please see our
Cookie Policy.
2025-9-8 8:00:00
盛美上海總經(jīng)理王堅(jiān)表示：
KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith KrF的推出拓展了盛美上海在前端工藝設(shè)備領(lǐng)域的影響力，體現(xiàn)了我們應(yīng)對(duì)更廣泛的光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，KrF光刻技術(shù)仍是成熟工藝器件生產(chǎn)的核心工藝，我們相信此類(lèi)設(shè)備在全球半導(dǎo)體產(chǎn)出中占比龐大且持續(xù)增長(zhǎng)。通過(guò)同時(shí)提供ArF和KrF工藝涂膠顯影系統(tǒng)，我們正在更廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域中，實(shí)現(xiàn)了順暢的晶圓廠集成效率，提升制造靈活性。
盛美上海推出的KrF工藝涂膠顯影Track設(shè)備Ultra Lith KrF采用靈活工藝模塊配置，配備12個(gè)旋涂腔和12個(gè)顯影腔（12C12D），并搭載54塊可精確控溫的熱板，支持低溫、中溫及高溫工藝處理，具備優(yōu)異的熱均勻性。該設(shè)備產(chǎn)能超過(guò)300片晶圓/小時(shí)（WPH），并集成盛美上海專利申請(qǐng)中的背面顆粒去除模塊（BPRV），有效降低交叉污染風(fēng)險(xiǎn)。
此外，集成的晶圓級(jí)異常檢測(cè)（WSOI）模塊可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)工藝偏差檢測(cè)和良率異常監(jiān)測(cè)，從而提高工藝穩(wěn)定性和生產(chǎn)效率。
